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Aperçu Produitsfour de tube de laboratoire

Le four de tube automatique de laboratoire a augmenté le four de déposition en phase vapeur

Le four de tube automatique de laboratoire a augmenté le four de déposition en phase vapeur

  • Le four de tube automatique de laboratoire a augmenté le four de déposition en phase vapeur
Le four de tube automatique de laboratoire a augmenté le four de déposition en phase vapeur
Détails sur le produit:
Lieu d'origine: La Chine
Nom de marque: Brother Furnace
Certification: CE
Numéro de modèle: BR-PECVD
Conditions de paiement et expédition:
Quantité de commande min: 1 jeu
Prix: Negotiation
Détails d'emballage: Boîte en bois forte pour l'expédition globale
Délai de livraison: 7-21 jours ouvrables
Conditions de paiement: L / C, T / T, Western Union
Capacité d'approvisionnement: 200 ensembles par mois
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Description de produit détaillée
Température maximale: 1200℃ Vide normal: -0.1Mpa
Vide maximum: Pompe moléculaire de configuration, PA du vide 7x10-4 (facultative) Bride: bride de cachetage de l'acier inoxydable 304
Protection de surchauffe: puissance- automatique quand la température dépasse la valeur réglée permise Protection de sécurité: Automatiquement mise hors tension quand le corps de four coule
Structure de four: ventilateur en acier de double couche double, température de surface au-dessous de 50℃ TAUX DE CHAUFFAGE DE MAX: 20°C /min
Exactitude de la température: ±1℃ Uniformité de la température: ±5℃
Contrôle de température: 50 segments programmables et contrôle automatique Tube de four: Tube de quartz
Application: Le plasma a augmenté le four de déposition en phase vapeur
Surligner:

four de tube tournant

,

four de tube de quartz

Le plasma de laboratoire a augmenté le four de déposition en phase vapeur jusqu'à 1200 degrés
 
Introduction intelligente de PECVD :
Le système de PECVD est conçu pour diminuer la température de réaction de la CVD traditionnelle. Il a installé l'équipement d'induction de rf devant la CVD traditionnelle pour ioniser réagir le gaz, ainsi le plasma est produit. Le plasma de forte activité est réaction est dû accéléré au de forte activité du plasma. Ainsi, ce système s'appelle le PECVD.
Ce modèle est le produit le plus, il a synthétisé les avantages de la plupart des systèmes du tube PECVD, et a ajouté une zone de préchauffage dans l'avant du système de PECVD. Les essais ont prouvé que la vitesse de dépôt est plus rapide, la qualité de film est meilleur, les trous sont moins, et ne fendront pas. Le système de contrôle intelligent complètement automatique d'AISO est indépendamment conçu par notre société, il est plus commode d'utiliser et sa fonction est plus puissante.
Grand choix d'application : film de film métallique et en céramique, film composé, la croissance continue de divers films. Facile d'augmenter la fonction, peut augmenter gravure à l'eau forte de nettoyage de plasma et d'autres fonctions
 
 
Caractéristique principale :

  • Taux de dépôt élevé de film : La technologie de lueur de rf, augmentant considérablement le taux de dépôt du film, le taux de dépôt peut atteindre 10Å/S
     
  • Uniformité élevée de secteur : La technologie de alimentation multipoint avancée de rf, la distribution spéciale de chemin de gaz, et la technologie de chauffage, etc., font la portée 8% d'index d'uniformité de film
     
  • Cohérence élevée : utilisant le concept de construction avancé de l'industrie de semi-conducteur, la déviation entre les substrats d'un dépôt est moins de 2%
     
  • Stabilité de processus élevée : L'équipement fortement stable assure un processus continu et stable

Le four de tube automatique de laboratoire a augmenté le four de déposition en phase vapeur 0
 
Pièces de rechange de norme :

  • Branchement des PCs du tube 4
  • PC du tube de four 1
  • PC de la pompe à vide 1
  • Ensembles de la bride 2 de fermeture sous-vide
  • PC de la mesure de vide 1
  • La livraison et pompe à vide de gaz
  • Équipement de plasma de rf

 
Pièces de rechange facultatives :
 

  • Bride de libération rapide, bride à trois voies
  • 7 éboulis de contact de pouce HD

 
 
 
Le plasma a augmenté des spécifications standard de four de déposition en phase vapeur :

1. Système de chauffage
Max.temperature1200℃ (1 heure)
La température fonctionnante≤1100℃
Taille de chambreΦ100*1650mm (le diamater de tube est personnalisable)
Matériel de chambrePanneau de particules d'alumine de grande pureté
ThermocoupleType de K
Temperatureaccuracy±1℃
Contrôle de température

segments programmables du ● 50 pour le contrôle précis du taux de chauffage, du taux de refroidissement et du temps de pause.

● établi dans la fonction d'Automatique-air de PID avec la protection cassée par thermocouple de surchauffe et cassée.

Système de contrôle automatique de PLC de ● par le contrôleur de PC à l'intérieur.

Le ● le système de contrôle de température, glissant le système (temps et distance) pourrait être commandé par programme.

Longueur de chauffage440mm
Longueur constante de chauffage200mm
Élément de chauffeFil de résistance
Alimentation d'énergieMonophasé, 220V, 50Hz
Puissance évaluée9kW
2. Source de plasma de rf
Fréquence de rf13,56 MHz±0.005%
De puissance de sortie500W
Maximum reflétez la puissance500W
Le rf a produit l'interface50 Ω, de type n, femelles
Stabilité de puissance±0.1%
Composant harmonique≤-50dbc
Tension d'alimentation/fréquenceMonophasé AC220V 50/60HZ
Efficacité entière>=70%
Facteur de puissance>=90%
Méthode de refroidissementÀ air forcé
3. Système de contrôle de masse de trois débitmètres de précision
Dimension externe600x600x650mm
Type de connecteurJoint de Swagelok solides solubles
Gamme standard (N2)0~100sccm, 0~200sccm, ou personnalisable
Exactitude±1.5%
Linéaire±0.5~1.5%
Répétabilité±0.2%
Temps de réponse

Propriété de gaz : Sec 1~4 ;
Propriété électrique : Sec 10

Chaîne de pression0.1~0.5 MPA
Max.pressure3MPa
InterfaceΦ6,1/4 »
Affichageaffichage de 4 chiffres
Température ambiantegaz de la grande pureté 5~45
Indicateur de pression- 0.1~0.15 MPA, 0,01 MPA/unité
La soupape d'arrêtΦ6
Polissez le tube de solides solublesΦ6
Bas système de vide inclus
 

 
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