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Le plasma de tube électronique du four 1200℃ a augmenté le four de LPCVD avec la pompe à vide

Le plasma de tube électronique du four 1200℃ a augmenté le four de LPCVD avec la pompe à vide

1200℃ Vacuum Tube Furnace Plasma Enhanced LPCVD Furnace With Vacuum Pump

Détails sur le produit:

Lieu d'origine: La Chine
Nom de marque: Brother Furnace
Certification: CE
Numéro de modèle: BR-PECVD

Conditions de paiement et expédition:

Quantité de commande min: 1 jeu
Prix: Negotiation
Détails d'emballage: Boîte en bois forte pour l'expédition globale
Délai de livraison: 7-21 jours ouvrables
Conditions de paiement: L / C, T / T, Western Union
Capacité d'approvisionnement: 200 ensembles par mois
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Description de produit détaillée
Max Temperature: 1200℃ Normal vacuum: -0.1MPa
Max Vacuum: Configuration molecular pump, Vacuum 7x10-4 Pa (Optional) Flange: 304 stainless steel sealing flange
Over-temperature protection: automatic power-off when the temperature exceeds the allowable set value Safety protection: Automatically power off when the furnace body leaks
Furnace structure: double layer steel dual cooling fan, surface temperature below 50℃ Max Heating rate: 20°C /min
TEMPERATURE ACCURACY: ±1℃ TEMPERATURE UNIFORMITY: ±5℃
Temperature Control: 50 Segments programmable and auto control Furnace tube: Quartz tube
Application: Plasma Enhanced LPCVD

Le plasma 1200℃ a augmenté le four de LPCVD avec la pompe à vide
 
Introduction intelligente de LPCVD :
Le système de PECVD est conçu pour diminuer la température de réaction de la CVD traditionnelle. Il a installé l'équipement d'induction de rf devant la CVD traditionnelle pour ioniser réagir le gaz, ainsi le plasma est produit. Le plasma de forte activité est réaction est dû accéléré au de forte activité du plasma. Ainsi, ce système s'appelle le PECVD.
Ce modèle est le produit le plus, il a synthétisé les avantages de la plupart des systèmes du tube PECVD, et a ajouté une zone de préchauffage dans l'avant du système de PECVD. Les essais ont prouvé que la vitesse de dépôt est plus rapide, la qualité de film est meilleur, les trous sont moins, et ne fendront pas. Le système de contrôle intelligent complètement automatique d'AISO est indépendamment conçu par notre société, il est plus commode d'utiliser et sa fonction est plus puissante.
Grand choix d'application : film de film métallique et en céramique, film composé, la croissance continue de divers films. Facile d'augmenter la fonction, peut augmenter gravure à l'eau forte de nettoyage de plasma et d'autres fonctions
 
 
Caractéristique principale :

  • Taux de dépôt élevé de film : La technologie de lueur de rf, augmentant considérablement le taux de dépôt du film, le taux de dépôt peut atteindre 10Å/S
     
  • Uniformité élevée de secteur : La technologie de alimentation multipoint avancée de rf, la distribution spéciale de chemin de gaz, et la technologie de chauffage, etc., font la portée 8% d'index d'uniformité de film
     
  • Cohérence élevée : utilisant le concept de construction avancé de l'industrie de semi-conducteur, la déviation entre les substrats d'un dépôt est moins de 2%
     
  • Stabilité de processus élevée : L'équipement fortement stable assure un processus continu et stable


 
Pièces de rechange de norme :

  • Branchement des PCs du tube 4
  • PC du tube de four 1
  • PC de la pompe à vide 1
  • Ensembles de la bride 2 de fermeture sous-vide
  • PC de la mesure de vide 1
  • La livraison et pompe à vide de gaz
  • Équipement de plasma de rf

 
Pièces de rechange facultatives :
 

  • Bride de libération rapide, bride à trois voies
  • 7 éboulis de contact de pouce HD

 
 
 
Spécifications standard fendues de four de tube du laboratoire PECVD :
 

1. Système de chauffage
Max.temperature 1200℃ (1 heure)
La température fonctionnante ≤1100℃
Taille de chambre Φ100*1650mm (le diamater de tube est personnalisable)
Matériel de chambre Panneau de particules d'alumine de grande pureté
Thermocouple Type de K
Temperatureaccuracy ±1℃
Contrôle de température

segments programmables du ● 50 pour le contrôle précis du taux de chauffage, du taux de refroidissement et du temps de pause.

● établi dans la fonction d'Automatique-air de PID avec la protection cassée par thermocouple de surchauffe et cassée.

Système de contrôle automatique de PLC de ● par le contrôleur de PC à l'intérieur.

Le ● le système de contrôle de température, glissant le système (temps et distance) pourrait être commandé par programme.

Longueur de chauffage 440mm
Longueur constante de chauffage 200mm
Élément de chauffe Fil de résistance
Alimentation d'énergie Monophasé, 220V, 50Hz
Puissance évaluée 9kW
2. Source de plasma de rf
Fréquence de rf 13,56 MHz±0.005%
De puissance de sortie 500W
Maximum reflétez la puissance 500W
Le rf a produit l'interface 50 Ω, de type n, femelles
Stabilité de puissance ±0.1%
Composant harmonique ≤-50dbc
Tension d'alimentation/fréquence Monophasé AC220V 50/60HZ
Efficacité entière >=70%
Facteur de puissance >=90%
Méthode de refroidissement À air forcé
3. Système de contrôle de masse de trois débitmètres de précision
Dimension externe 600x600x650mm
Type de connecteur Joint de Swagelok solides solubles
Gamme standard (N2) 0~100sccm, 0~200sccm, ou personnalisable
Exactitude ±1.5%
Linéaire ±0.5~1.5%
Répétabilité ±0.2%
Temps de réponse

Propriété de gaz : Sec 1~4 ;
Propriété électrique : Sec 10

Chaîne de pression 0.1~0.5 MPA
Max.pressure 3MPa
Interface Φ6,1/4 »
Affichage affichage de 4 chiffres
Température ambiante gaz de la grande pureté 5~45
Indicateur de pression - 0.1~0.15 MPA, 0,01 MPA/unité
La soupape d'arrêt Φ6
Polissez le tube de solides solubles Φ6
Bas système de vide inclus
 

 
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